该电子厂位于华东地区，主要生产半导体材料，生产过程中产生大量含氟化氢的废水，日排放量约50吨。由于氟化氢浓度高达800mg/L，远超国家排放标准（10mg/L以下），企业急需建设专业处理设施。

废水成分及来源

废水主要来自晶圆清洗、蚀刻工序，主要污染物为氟化氢（HF），同时含有少量硝酸、硅酸盐及微量重金属。pH值极低（1-2），具有强腐蚀性。

处理工艺流程

采用"化学沉淀+絮凝沉淀+深度过滤"三级处理工艺：

中和反应

：投加氢氧化钙（Ca(OH)2）调节pH至8-9，生成氟化钙沉淀

絮凝沉淀

：加入PAC（聚合氯化铝）和PAM（聚丙烯酰胺）强化沉淀效果

多级过滤

：通过石英砂过滤器和活性炭吸附塔去除残余悬浮物

pH回调

：用稀盐酸将出水pH调整至6-9的达标范围

关键控制参数：反应时间≥30分钟，Ca/F摩尔比控制在1.1:1，搅拌速度60rpm。

最终效果

处理后出水氟离子浓度稳定在6-8mg/L，去除率达99%，完全满足《污水综合排放标准》（GB8978-1996）一级标准。系统自动化程度高，运行成本约8元/吨水。