项目背景

上海某半导体厂生产过程中同时产生高硅废水（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废水（F⁻ 200-300mg/L）。两种废水混合后易形成氟硅酸胶体，传统化学沉淀法难以稳定达标。项目要求同步去除硅和氟（排放标准：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。

废水成分及来源

主要成分

：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇

来源

：晶圆刻蚀废水、CMP研磨废水、设备冲洗水

处理工艺流程

协同沉淀阶段

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两级反应池

：

第一级投加Ca(OH)₂生成CaF₂和CaSiO₃沉淀；

第二级投加PAC（聚合氯化铝）强化絮凝。

固液分离阶段

：

超滤系统

：采用0.02μm孔径膜组件截留胶体硅和微细沉淀物。

深度脱氟阶段

：

活性氧化铝吸附塔

：残余氟离子吸附去除。

最终效果

出水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远优于国家标准。

超滤系统通量稳定在15LMH，化学清洗周期延长至60天。

污泥经压滤后含水率＜65%，可按一般固废处置。