某电子元器件制造企业位于长三角地区，主要生产集成电路板、半导体元件等产品。在生产过程中，使用氢氟酸进行硅片清洗和蚀刻，产生大量含氟废水。由于当地环保要求严格，氟化物排放限值为8mg/L，企业急需建设专业处理设施。

废水成分及来源

废水主要来自三个环节：硅片酸洗工序（氟浓度120-150mg/L）、设备冲洗水（氟浓度80-100mg/L）以及车间地面清洗水（氟浓度30-50mg/L）。除氟化物外，废水中还含有微量重金属（铜、镍）、有机物（异丙醇）及酸碱物质，pH值波动在2-4之间。

处理工艺流程

采用"预处理+化学沉淀+深度净化"组合工艺：

调节池

：收集各车间废水，进行水质水量均衡，pH调节至6-

混凝沉淀

：投加氯化钙（CaCl₂）和聚合氯化铝（PAC），形成氟化钙沉淀

絮凝反应

：加入聚丙烯酰胺（PAM）增强絮体沉降性能

斜板沉淀池

：实现固液分离，上清液进入下一工序

活性炭吸附

：去除残留有机物和微量重金属

砂滤系统

：进一步截留悬浮物

pH回调

：确保出水pH在6-9范围内

最终效果

系统稳定运行后检测数据显示：氟化物浓度从进水均值110mg/L降至5.2mg/L，去除率达95.3%；COD从85mg/L降至20mg/L以下；重金属含量均低于排放标准。项目投资约280万元，吨水处理成本3.8元，完全满足《污水综合排放标准》（GB8978-1996）一级标准。